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Cintilador encapsulado

Substrato de silício

Os monocristais de silício são utilizados como material semicondutor e em transístores de alta potência, retificadores, células solares, etc. A OST Photonics oferece de alta qualidade...

Substrato de silício

Os monocristais de silício são utilizados como material semicondutor e em transístores de alta potência, retificadores, células solares, etc. A OST Photonics fornece substratos de silício de alta qualidade para investigadores e indústrias. A orientação cristalina, as dimensões e a espessura podem ser personalizadas de acordo com os seus requisitos.

  • FabricanteOST Photonics
  • CategoriaWafer e substrato de cristal
  • Prazo de entregaOrçamentado por encomenda
  • PersonalizaçãoDimensão, orientação e acabamento superficial conforme desenho

Características

  • Baixo custo
  • Seguro e não tóxico
  • Excelente maquinabilidade
  • Disponível em grandes dimensões

Aplicações

  • Circuitos integrados
  • Dispositivo semicondutor
  • Eletrónica de consumo
  • Substrato para células solares

Capacidade de processamento

  • Orientação: <100>,<111>,<110>, etc.
  • Dimensão: 2”, 3”, 4”, 5”, 6”, 8”, 12”, 5x5mm, 10x10mm, 20x20mm etc.
  • Espessura: 279 μm, 380 μm, 525 μm, 625 μm, 675 μm, 725 μm, 775 μm, 500 μm, 1000 μm etc.
  • Artigos disponíveis: bolachas, substratos, blanks e ópticas personalizadas

Especificações e propriedades dos substratos de silício

Estrutura cristalinaCúbico
Ponto de fusão1420 ℃
Densidade2.4 g/cm3
DopanteNão dopadoBoroFósforo
Tipo de conduçãoIntrínsecoTipo PTipo N
Resistividade>1000 ohm.cm0.001~1000 ohm.cm0.001~1000 ohm.cm
EPD≤100 ∕cm2≤100 ∕cm2≤100 ∕cm2
Teor de oxigénio(∕cm3)≤1~1.8×10^18≤1~1.8×10^18≤1~1.8×10^18
Teor de carbono(∕cm3)≤5×10^16≤5×10^16≤5×10^16
Orientação<100>,<111>,<110>, etc.
Tolerância de orientação±0.5° ou melhor
Dimensão2”, 3”, 4”, 5”, 6”, 8”, 12”, 5x5mm, 10x10mm, 20x20mm etc.
Tolerância dimensional±0.1 mm ou melhor
Espessura279 μm, 380 μm, 525 μm, 625 μm, 675 μm, 725 μm, 775 μm, 500 μm, 1000 μm etc.
Tolerância de espessura±0.025 mm ou melhor
Acabamento superficialPolido de um lado (SSP)/polido dos dois lados (DSP)
EmbalagemSaco limpo de classe 100, sala superlimpa de classe 1000

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Envie-nos as suas dimensões, a orientação, o acabamento superficial e a quantidade. Os nossos engenheiros respondem com uma proposta técnica e um preço.

Perguntas frequentes

Perguntas dos compradores

Qual é a estrutura cristalina do substrato de silício?
A estrutura cristalina do substrato de silício é Cúbica.
Qual é o ponto de fusão do substrato de silício?
O ponto de fusão do substrato de silício é 1420 ℃.
Qual é a densidade do substrato de silício?
A densidade do substrato de silício é 2.4 g/cm3.
Qual é a orientação do substrato de silício?
A orientação do substrato de silício é <100>,<111>,<110>, etc..
Como posso solicitar um orçamento de Substrato de silício?
Envie a quantidade, a especificação e o seu porto de destino para a Jiaxing AOSITE Photonics Technology Co.,Ltd. por email ou telefone. Este site não tem formulário de consulta, pelo que a sua mensagem chega diretamente a um engenheiro e não a uma fila de contactos.
É possível fabricar substrato de silício conforme uma especificação personalizada?
As dimensões e os acabamentos personalizados são orçamentados caso a caso com base no seu desenho ou especificação escrita. Envie o que necessita e a fábrica confirmará o que é exequível, e com que tolerância, antes de efetuar a encomenda.
Quem fabrica o substrato de silício?
Jiaxing AOSITE Photonics Technology Co.,Ltd., que opera sob a designação OST Photonics, fabrica em Jiaxing, Zhejiang, China desde 2010.

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